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    Canon desafía el dominio de ASML con su tecnología de litografía NIL

    ByDomingo Tapia

    Jan 30, 2024
    Canon desafía el dominio de ASML con su tecnología de litografía NIL

    ASML ha mantenido el monopolio en la fabricación de equipos de litografía necesarios para los circuitos integrados de última generación. Sin embargo, Canon se está preparando para entrar en el mercado con su tecnología de litografía NanoImprint Lithography (NIL).

    A principios de noviembre de 2023, Canon anunció que había desarrollado con éxito su primer equipo de litografía NIL capaz de fabricar circuitos integrados de hasta 2 nm. La historia de Canon en la litografía NIL se remonta a 2004, y finalmente en 2017 entregaron su primera máquina funcional a Toshiba.

    La tecnología de litografía NIL difiere en gran medida de la tecnología utilizada por los equipos de litografía UVE y UVP. Mientras que los últimos utilizan luz ultravioleta y un sistema óptico complejo para transferir el patrón a la oblea de silicio, la litografía NIL no requiere un sistema óptico tan complejo.

    Si bien la litografía NIL es más sencilla y económica, también es más lenta debido a sus procesos secuenciales. Según Canon, sus equipos de litografía NIL pueden fabricar circuitos integrados comparables a los chips de 5 nm fabricados por TSMC, Samsung e Intel con los equipos UVE de ASML. Además, los equipos NIL cuestan diez veces menos que las máquinas UVE de ASML.

    Canon tiene previsto entregar los primeros equipos de litografía NIL de última generación a sus clientes antes de que termine 2024. SK Hynix ya ha mostrado interés en esta tecnología, ya que es ideal para la producción de chips NAND flash. Es probable que SK Hynix sea una de las primeras empresas en utilizar los equipos NIL en sus plantas de semiconductores.

    Con el desarrollo de la tecnología de litografía NIL, Canon está desafiando el dominio de ASML en el mercado de equipos de litografía y ofreciendo una alternativa más económica para la fabricación de chips de vanguardia.

    Preguntas frecuentes sobre la tecnología de litografía NanoImprint Lithography (NIL) de Canon

    1. ¿Qué es la litografía y por qué es importante en la fabricación de circuitos integrados?
    La litografía es un proceso utilizado en la fabricación de circuitos integrados para imprimir patrones en las obleas de silicio. Es un paso crítico en la producción de chips y determina la capacidad y el rendimiento de los circuitos integrados.

    2. ¿En qué se diferencia la tecnología de litografía NIL de la tecnología UVE y UVP?
    La tecnología de litografía NIL no requiere un sistema óptico tan complejo como la tecnología UVE y UVP. Mientras que los equipos de litografía UVE y UVP utilizan luz ultravioleta y sistemas ópticos para transferir el patrón a la oblea de silicio, la litografía NIL utiliza un enfoque más sencillo y económico.

    3. ¿Cuáles son las ventajas de la tecnología de litografía NIL?
    La tecnología de litografía NIL es más económica en comparación con los equipos de litografía UVE y UVP. Además, los equipos NIL pueden fabricar circuitos integrados comparables a los producidos por los equipos UVE de ASML. Los equipos NIL también cuestan diez veces menos que las máquinas UVE de ASML.

    4. ¿Cuándo se espera que Canon entregue los primeros equipos de litografía NIL?
    Canon planea entregar los primeros equipos de litografía NIL antes de que termine 2024.

    5. ¿Qué empresas están interesadas en la tecnología de litografía NIL de Canon?
    SK Hynix ha mostrado interés en la tecnología de litografía NIL de Canon, especialmente para la producción de chips NAND flash. Es probable que SK Hynix sea una de las primeras empresas en utilizar esta tecnología en sus plantas de semiconductores.

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